如此一來(lái)，光學(xué)薄膜技術(shù)在奈米級(jí)尺寸即將到來(lái)的 催促之下，其技術(shù)研究將成為非常重要的關(guān)鍵因素。 目前在積體光學(xué)技術(shù)所能製造的光學(xué)元件，大都是以電光、聲光調(diào)變器、光分離器、分工／解分工器…為主 ，倘若要做到全光式或者多元件的積體光學(xué)元件，不可或缺的便是「奈米光學(xué)薄膜元件」。這當(dāng)中受到關(guān)注 的就是，結(jié)合薄膜技術(shù)及微影技術(shù)（OpticalLithography）所形成的光子晶體（photoniccrystals），使其帶 有週期性的介電質(zhì)分佈結(jié)構(gòu)特性，藉以提高解析度轉(zhuǎn)而製作更微小特徵尺寸，才能擁有在相同單位面積上，有 更高密度下可容納更多的電晶體。